填充阵列命令

使用填充阵列命令创建一个选定特征的阵列，该阵列完全填充已定义的区域。填充阵列可以是矩形、交错或径向的。每种填充阵列类型均有一组用于定义阵列的选项。可以手动或使用阵列边界偏置值压缩事例。可以对填充阵列进行编辑以产生所需的结果。

填充阵列类型


	矩形
	交错
	半径

填充阵列工作流


步骤 1.	选择要设置阵列的特征。
步骤 2.	选择阵列组→阵列列表→填充阵列命令。
步骤 3.	单击要进行阵列填充的区域。
步骤 4.	按 Enter 键，单击绿色勾号或右键单击，放置阵列填充预览。
步骤 5.	在阵列填充命令条上，选择阵列填充类型。默认为矩形填充。
步骤 6.	在命令条上，设置所需的阵列选项。
步骤 7.	阵列特征的原点默认为质心。使用方向盘，您可以修改原点、定义第一个阵列行的方向和编辑间距值。也可以单击编辑轮廓手柄修改阵列区域。
步骤 8.	右键单击或单击绿色勾号放置填充阵列。
步骤 9.	单击或按 Esc 键终止阵列填充命令。

矩形填充

此阵列类型使用事例的行列填充区域。它是默认的阵列填充类型。

输入两个值以定义行列间距。使用 Tab 键在间距值框之间进行切换。

单击方向盘环面，然后输入一个角度值，更改阵列行的方向矢量。在矩形填充阵列中，列始终与行的方向保持垂直。

交错填充

此阵列类型使用交错的事例行填充区域。

极偏置、线性偏置和复杂线性偏置是用于控制交错填充阵列的选项。

使用极选项，(A) 是第一行中事例的间距。(B) 定义偏置行。间距是由旋转角度及行间距值的半径所定义的。

使用线性偏置选项，(C) 是第一行上方（和下方）的事例的偏置间距。(D) 定义行之间的间距。

径向填充

此阵列类型使用径向事例环填充区域。

实例计数间距选项提供对每个环中事例数量的控制（计数框 A）。事例间的径向间距由 (B) 值框所控制。

目标间距选项提供对事例的径向间距 (C) 及每个环上事例间距 (D) 的控制。因为实际值必须进行四舍五入以恰好适合每个环上的所有事例，所以目标间距只是近似值。

中心定向

中心定向选项仅在使用径向填充时可用。

此选项提供对径向事例方位的控制。选中此选项后，方向盘会改变且在环面中将显示一个箭头。此箭头可确定事例的方位。

下图显示了中心定向为关闭的方向盘显示。

下图显示了中心定向为开启的方向盘显示。方向盘的环面上将显示一个把手，环面中有一个箭头。选择把手或箭头，更改事例的方位。

请注意，随着中心定向角度值的更改，方向矢量上的第一个事例（标记为橙色以供辨认）也会按该值进行旋转。

编辑填充阵列

可以随时编辑填充阵列。通过在阵列中选择事例或在路径查找器中选择阵列特征，选择要编辑的填充阵列。

单击文本手柄填充阵列编辑阵列。

此时，您可以对选定的阵列填充进行任意更改，甚至可以更改填充阵列类型。

将特征添加到现有阵列的父特征集

可以添加或移除已设置阵列的父特征。

工作流


步骤 1.	编辑阵列。
步骤 2.	单击命令条上的添加到阵列按钮。
步骤 3.	选择要添加到父特征或从父特征中移除的特征。
步骤 4.	右键单击（或绿色勾号）进行预览。右键单击（或绿色勾号）以接受。

编辑阵列轮廓

创建填充阵列后，已阵列的区域边界即会复制到阵列填充轮廓中。阵列填充轮廓不与原始草图/模型边缘相关联。可以编辑阵列轮廓。

要编辑阵列轮廓，请单击文本手柄编辑轮廓。

进行编辑之后，阵列轮廓已更改，但原始草图/模型边缘不会更改。编辑完成后，阵列将更新为填充更新后的轮廓区域。在编辑轮廓模式中，窗口右上部分会显示一个图标。单击此图标结束编辑。编辑后的阵列轮廓必须产生一个有效的封闭区域。如果轮廓有问题，则会发生错误。如果轮廓不正确，但接受了更新，则填充阵列将被删除。

提示:

在路径查找器中，在编辑阵列轮廓时关闭草图区域的显示。如果同时显示阵列轮廓和草图，轮廓阵列的编辑可能令人感到混乱。例如：如果删除阵列轮廓元素，则草图元素的显示将会保留，而删除的元素看起来好像仍在原位。

压缩事例

可以压缩（或隐藏）阵列填充中的事例。

工作流


步骤 1.	在填充阵列命令条上，单击压缩事例按钮。默认设置为使用事例痕迹 (A)方法。此设置使用阵列对象的痕迹（2D 轮廓）以确定对象是否在填充区域内。“允许边界接触 (B)”选项控制是否对痕迹接触填充边界的事例进行压缩。要使用事例标记器方法，请关闭使用事例痕迹 (A)。事例标记器方法使用事例轮廓质心确定事例是否接触边界。
步骤 2.	所有未压缩的事例均将以绿点显示。单击要压缩的事例。压缩的事例以红色圆圈显示。单击一个已压缩的事例，则它会变为未压缩。
步骤 3.	在压缩命令条上，单击重置，将所有事例返回为未压缩状态。
步骤 4.	要压缩与区域边界重叠的事例，请在值框 (A) 中输入偏置值。该值是事例和边界之间的法向距离。负值 (B) 按照偏置值压缩区域边界内的事例。正值 (C) 按照偏置值显示区域边界外的事例。

接触或重叠阵列特征

定义阵列填充阵列后，在由阵列间距或角度值指定的每个位置上均将放置一个事例。但是，如果特征与相邻特征相接触或重叠，则已阵列的特征不会放置在该事例处。在下例中，(A) 矩形阵列填充阵列为 10 x 10，且 (B) 已更改为 7 x 7。(B) 中的事例间距导致阵列父级与其他事例相重叠。阵列填充命令确定要在其上放置阵列父级的事例，从而产生阵列结果。